真空式等離子處理系統CRF-VPO-2L-S

名稱（Name）

真空式等離子處理系統

型號（Model）

CRF-VPO-2L-S

控制系統（Control system）

PLC+觸摸屏

電源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz, 3kw

中頻電源功率（RF Power）

1000W/40KHz

容量（Volume ）

10L(Option)

層數（Electrode of plies ）

2(Option)

腔體規格（Area）

220(W)*230(D)*230(H)

氣體通道（Gas）

兩路工作氣體可選：Ar、N2、CF4、O2

產品概述
設備參數
產品特點
超大處理空間，提升處理產能，采用PLC+觸摸屏控制系統，精準的控制設備運行；
可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數，滿足客戶的需求；保養維修成本低，便于客戶成本控制；
高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業的技術支持。
 
應用范圍
真空等離子清洗機適用于印制線路板行業，半導體IC領域、硅膠、塑膠、聚合體領域，汽車電子行業,航空工業等。印制線路板行業：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污、軟板、軟硬結合板表面清潔、去鉆污，軟板補強前活化。半導體IC領域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領域硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。

等離子清洗機應用在新能源與有(機)溶劑各大優勢有哪些呢？

等離子清洗機新能源行業應用如下：
玻璃基板：
使用等離子體技術，對材料表面進行轟擊，可有效去除表面污染物，使工件表面親水性大大提高。清洗后的水滴夾角小于5度，為下道工序的進行奠定良好基礎。
陽極表面改性：
用等離子體技對ITO陽極進行表面改性，可有效優化其表面化學組成，大大降(低)方塊電阻，從而有效提高能量轉換效率，改善器件的光伏性能。
涂保護膜前處理：
硅片表面很光亮，會反射掉大量的太陽光。因此，在其上沉積一層反射系數很小的氮化硅保護膜是很有必要的。通過采用等離子體技術，可活(化)硅片表面，大大提高其表面附著力。
電池行業
極耳、極片、電極柱的焊接改善，提(升)品質，降(低)內阻；
外殼涂裝前處理，提高附著力；
電池正負極材料分切后處理，清(除)表面顆粒物，提高電芯品質；
等離子清洗機在有(機)溶劑的濕法清洗的九大優勢:
一、清洗對象經等離子清洗之后是干燥的，不需要再經干燥處理即可送往下一道工序。可以整個工藝流水線的處理效率;
二、等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題;
三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環保的綠色清洗方法。這在高度關注環保的情況下越發顯出它的重要性;
四、采用無線電波范圍的高頻產生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強，這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內部完成清洗任務，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效(果)與氟利昂清洗的效(果)像是甚致更好;
五、使用等離子清洗，可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內即可完成，因此具有產率高的特點;
六、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種清洗條件很容易達到。因此這種裝置的設備成本不高，加上清洗過程不需要使用價格較為昂貴的有(機)溶劑，這使得整體成本要低于傳統的濕法清洗工藝;
七、使用等離子清洗，避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施，所以生產場地很容易保持清潔衛生;
八、等離子體清洗可以不分處理對象，它可以處理各種各樣的材質，無論是金屬、半導體、氧化物，還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環氧樹脂等高聚物)都可以使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結構進行部分清洗;
九、在完成清洗去污的同時，還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等，這在許多應用中都是很重要的。 目前等離子清洗應用越來越廣泛，國內外的使用者對等離子體清洗技術的要求也是越來越高。好的產品還需要專(業)的技術支持與維護!