狹縫涂覆模頭系列
窄縫涂布模頭可以生產出非常薄的涂層以及透明的光學涂層,同時可使涂層量保持在非常精確公差范圍內,與將涂布液擦拭到基材上的涂布系統不同,我們的窄縫涂布模頭屬于模唇縫隙相對較大(可達到 0.0762mm)的涂布模頭,由此模唇縫隙抽吸出的液體可形成zui薄至 1μm 的涂層。窄縫涂布模頭可在涂層厚度只有 0.002mm 或者是 2μm 的情況下,將整個寬度上的涂層量控制在 5% 左右的公差變化范圍內。我們生產的窄縫涂布模頭模唇是固定的,因此可以利用可換的控隙片來改變涂層的厚度和寬度。涂布量從不足 1μm 到 254μm 的涂層厚度。該類模頭可加工各種類型的膠粘劑(包括特殊的透明膠粘劑) 電池、、陶瓷電容器、裝飾表面、電子顯示介質、過濾膜、地板、燃料電池、磁性泥漿、醫療產品、光阻材料、壓敏膠帶、太陽能電池、超導體、撕帶和窗用薄膜等。
Fixed & Flexible系列涂布模頭相對傳統開放式涂布工藝的優點
JWELL設計的窄縫模頭涂布系統用于連續性涂布,具有涂布均勻和無條紋的優點,而且與傳統的輥涂工藝相比,可以提高線速度和涂布精度,同時減小對環境的影響。另外與傳統的輥涂工藝相比,新設計的涂布系統既可作為獨立的涂布系統使用,也可作為成套涂布工作站的組件。
傳統熱熔膠輥涂工藝的線速度一般不超過360m/min,JWELL設計的而狹縫涂布zui高可以達到600m/min
窄縫模頭涂布工藝是全封閉的預先計量系統,因此與輥涂和其他傳統的開放式涂布系統相比,涂布效率更高,可控性更好。傳統的開放式涂布系統中,輸送到基材表面的膠水實際上只有一部分被涂布到基材表面上,其余部分都被回收循環使用。縫口模頭避免了膠水與環境的接觸,因此既可防止涂布材料在工作場所中排放,也可避免涂布材料本身受到污染。
這種新型模頭采用柔性接觸涂布,即將膠直接涂敷在基材上,是用模唇把膠“涂抹”在基材的表面上。