分析方法能量色散X熒光分析方法 測量元素范圍鎂(Mg)到鈾(U)之間的元素均可測量 同時檢測元素數幾十種元素可同時分析 處理器和內存CPU:667MHz,內存:256M,擴展存儲支持32G,標配2G,可以海量存儲數據 含量范圍ppm~99.99% 檢測時間3-30秒 GPS、WIFI內置系統 檢測對象固體、液體、粉末 探測器25mm2 0.3mil,SDD探測器 探測器分辨率可達139eV 激發源40KV/100uA-銀靶端窗一體化微型X光管及高壓電源 視頻系統高清晰攝像頭 顯示屏半透半反式液晶顯示觸摸屏,其分辨率是640*480 檢出限檢出限達ppm級 安全性自帶密碼管理員模式,數據可隨意保存 可充氣系統常壓充氦氣系統 數據傳輸數字多道技術,SPI數據傳輸,分析,高計數率 操作環境濕度≤90% 儀器外形尺寸234×306×82mm(L×H×W) 儀器重量1.9Kg(配備電池),1.6Kg(無電池)
手持式光譜儀是目前國內較的檢測儀器,應用在很多行業領域,雖然有很多人曾今使用儀器,但是只限于的技術人員,普通的人員看到這款儀器還是處于一知半解,那么手持式光譜儀操作的需要注意哪些事項,小編以的角度告訴大家如何使用這款器。 手持式光譜儀對于操作人員是有一定要求的,測試樣品前一定要請儀器廠商的技術人員現場演示,并且對技術人員做操作前的培訓。因為這款儀器是檢測元素,那么一定會要做放樣檢測,所以,技術人員還需要做好防輻射。手持式光譜儀是一種基于XRF光譜分析技術的光譜分析儀器,當能量高于原子內層電子結合能的高能X射線與原子發生碰撞時,驅逐一個內層電子從而出現一個空穴,使整個原子體系處于不穩定的狀態,當較外層的電子躍遷到空穴時,產生一次光電子,擊出的光子可能再次被吸收而逐出較外層的另一個次級光電子,發生俄歇效應,亦稱次級光電效應或無效應。所逐出的次級光電子稱為俄歇電子。當較外層的電子躍入內層空穴所釋放的能量不被原子內吸收,而是以光子形式放出,便產生X 射線熒光,其能量等于兩能級之間的能量差。因此,射線熒光的能量或波長是特征性的,與元素有一一對應的關系。由Moseley定律可知,只要測出熒光X射線的波長,可以知道元素的種類,這是熒光X射線定性分析的基礎。此外,熒光X射線的強度與相應元素的含量有一定的關系,據此,可以進行元素定量分析。X射線探測器將樣品元素的X射線的特征譜線的光信號轉換成易于測量的電信號來得到待測元素的特息。
手持式分析儀 探測器:13mm2 電致冷Si-PIN探測器 激發源:40KV/50uA-銀端窗一體化微型X光管 檢測時間:10-200秒(可手持式或座立式測試) 檢測對象:固體、液體、粉末 檢測范圍:硫(S)到鈾(U)之間所有元素 可同時分析元素:多至26個元素 元素檢出限:0.001%~0.01% 校正方式: 銀(Ag) 性:自帶模式,非人員無法使用 Data使用性:可在PDA內進行編輯,可導入PC機進行 保存打印,配備海量存儲卡 電 源: 兩塊鋰電池滿電可連續工作8小時
手持式光譜儀設備維護與保養:
1.手持式光譜儀使用過程中應輕拿輕放,防止內部零件受損。
2.保持檢測口薄膜的清潔,檢測口薄膜被污染可能引起檢測誤差。檢測口薄膜破損繼續使用可能會造成手持式光譜儀的損壞。應及時清潔或更換。
3.被檢測物表面的氧化層和污染物等要用砂輪機或金剛砂去除,以免造成測量結果不準確,被檢測物表面凹凸不平、有毛刺時應在檢測時注意,防止手持式光譜儀檢測口薄膜損壞。檢測鍍件時,要將電鍍層去除。
4.手持式光譜儀電池使用至10%時,應更換電池,充電。
合金材料分析 目前在合金材料檢測領域,它主要用于、航天、鋼鐵、石化、電力、制藥等領域金屬材料中元素成份的現場測定,是伴隨世界經濟崛起的工業和制造領域的成份鑒定工具。 重金屬檢測 除了傳統的合金材料檢測,貴金屬,RoHs合規篩查,礦石分析,手持式XRF儀器同樣在地質勘探和環境評估中發揮著重要的作用,通過分析土壤中的重金屬元素,可以知道整個區域的礦產分布和污染分布。 其他領域 XRF技術還可以用于一些新的領域,比如風電和汽車領域,通過對油品中金屬元素含量進行檢測,可以間接反映軸承的磨損情況。還有許多新的XRF應用領域正在被開發出來,使得XRF技術在各個行業領域得到了廣泛的應用。比如工廠的生產制造環節的焊接質量控制,也會用到XRF合金分析儀。
手持式光譜儀系統誤差的來源有: (1)標樣和試樣中的含量和化學組成不相同時,可能引起基體線和分析線的強度改變,從而引入誤差。 (2)標樣和試樣的物理性能不相同時,激發的特征譜線會有差別從而產生系統誤差。 (3)澆注狀態的鋼樣與經過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態的鋼樣金屬組織結構不相同時,測出的數據會有所差別。 (4)未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過程中加入脫氧劑、除硫磷劑時,混入未知合金元素而引入系統誤差。 (5)要系統誤差,必須嚴格按照標準樣品制備規定要求。為了檢查系統誤差,需要采用化學分析方法分析多次校對結果。