RZ-YYC系列氧氣純化裝置
一、概述
YYC系列氧氣純化裝置采用特制催化劑,以工業氧氣為原料氣,通過催化氧化工序脫除H2、CO和烴類;經冷卻系統、氣水分離器、吸附干燥脫除H2O、CO2,兩塔交替工作、再生。本工藝不能脫除氧氣中的氮、氬等惰性氣體雜質。
化學方程式:O2(AO2)+H2、CO、CH4→(AO)+H2O+CO2
二、技術參數:
1、處理氣量: 1~2000 Nm3/h(可根據用戶需要訂做非標設備)
2、原料氣要求: 工業氧
3、工作壓力0.2-3MPa可調
4、(氧氣純化裝置)凈化效能:純化后符合并高于GB/T14599-2008的99.9996%要求
氣體 | 純度(%) | H2(ppm) | N(ppm) | CO2(ppm) | CH4(ppm) | 露點 (H2O) |
高純氧 | 99.9996 | ≤0.2 | 不檢測 | ≤0.2 | ≤0.2 | ≤1 |
三、設備特點:
1、凈化器采用特殊結構和裝料方法,流速設計合理,氣流分布均勻;本凈化機的催化劑活性高,吸附劑容量大,故使用成本更低。
2、全B內外精拉管管路,采用進口卡套式球閥,杜絕了氣體流經管路的再次污染。
3、雙式結構,開機后一組工作,另一組再生、備用,而且RZ-YYC系列半自動純化裝置工作和再生都自動進行,故能夠連續供氣,一臺能頂單式的兩臺使用。亦可根據客戶需要,定做全自動操作方式;
4、抗波動能力強:對原料氧氣要求不高,允許雜質含量高達1000ppm,因此,用戶選用廉價的工業氧氣作氣源也能達到要求;
5、可根據客戶的原料氣指標和產品氣要求,采用不同工藝經濟來滿足客戶需要。
四、應用領域:
該系列氧氣純化裝置適用于需要大量高純氧氣的半導體、光纖、晶體管,顯像管等主要生產部門。
關鍵詞
氧氣凈化機,氧氣凈化器,氧氣凈化設備,氧氣凈化裝置,氧氣純化器,氧氣純化裝置,氧氣純化設備。