產(chǎn)品介紹:
XQ20-GⅠ型激光平面干涉儀主要用于精密光學平面的平面度測量,光學平板的微小楔角測量,光學材料均勻性測量,配置相應(yīng)的工作臺可實施光學薄板波前誤差的測量。是光學元件加工廠、光學儀器生產(chǎn)廠的光學檢測儀器。
此型號儀器采用大工作室移動檢測方案,解決大口徑高精度平面加工在線檢測難題;采用隱形布簾式圍板,既可保證高精度測量的需要又可實現(xiàn)大批量生產(chǎn)車間大口徑工作盤流水快速的篩選測量;運用高分辨率的攝像系統(tǒng)及顯示系統(tǒng),減輕了操作人員的勞動強度,檢測直觀方便;運用經(jīng)濟合理的簡化結(jié)構(gòu),既保證儀器應(yīng)有的測量精度又降低了制造成本,為中低精度大批量生產(chǎn)廠家實現(xiàn)非接觸快速測量創(chuàng)造了條件。
技術(shù)參數(shù):
1.標準平面(A面),工作直徑D1=Φ200mm,平面的面形偏差小于0.045μm(λ/15)
2.第二標準平面(B面),工作直徑D2=Φ200mm,平面的面形偏差小于0.045μm(λ/15)
3.準直系統(tǒng)…………………………工作直徑Φ200mm ,焦距 f = 580mm,波象差<λ/15
4.工作室尺寸…………………………1100×1100×350mm 可測量范圍800mm×800mm(移動)
5.光源規(guī)格……………………………………激光ZN250(He-Ne)(632.8nm)。
6.儀器的外形尺寸……………………………… 1400×1250×1560mm(高)
7.儀器質(zhì)量…………………………………………500kg