alpha300 RA –在一個系統里面集成化學成分分析和納米級別的結構成像
alpha300 RA 是高度集成的拉曼原子力顯微鏡系統，可以在標準的Alpha 300R共聚焦拉曼系統上通過標準模塊升級即可完成拉曼原子力系統聯用，獲得原位的AFM和Raman圖像的疊加。alpha300 RA 的設計理念使聯用系統既保留300R強大的化學組分分析能力，同時加入微納級別的表面形貌等特性的分析能力，使研究者能對樣品進行深度完善的分析和理解。
alpha300 RA 讓拉曼和原子力兩種互補的技術得以在一套系統里面實現，兩種技術的性能*不受聯用的影響，而且使用同一個操作軟件，使得操作和分析變得簡單應用。拉曼和原子力顯微鏡使用不同的顯微鏡物鏡，只需要簡單轉動物鏡轉盤，成像軟件即可原位完成兩種技術的圖像對比，疊加和分析
此外alpha300 RA可進一步升級來配合TERS (高分辨拉曼)測量
激光共聚焦顯微拉曼原子力顯微鏡主要特點
l 所有alpha300 R (拉曼) 和alpha300 A (原子力) 的性能集成到一個顯微鏡系統內
l 優異的原位化學組分分析（拉曼）和微納級別表面特征分析（原子力）的結合
l 原子力和拉曼同時進行的選擇
l 嚴格原位，*不需要在測量過程中移動樣品
l 只需要轉動物鏡轉盤即可在兩種測量技術之間簡單切換
激光共聚焦顯微拉曼原子力顯微鏡應用實例
多組分高分子混合物，包含了1:1:1比例的聚苯乙烯（PS），充油丁苯橡膠（SRB）和丙烯酸乙基己酯（EHA）的原位拉曼及原子力圖像對標
左邊的拉曼成像: 綠色代表PS, 紅色代表SRB，藍色代表EHA.
第二至第五張圖像分別是樣品的表面拓撲結構，相位，粘附力和粘度
金剛石壓砧在單晶硅表面的壓痕的應力分析，原位拉曼原子力圖像
左圖：10x10um原子力表面拓撲結構和深度輪廓圖，右圖壓痕周邊的應力拉曼圖像，紫色為未受應力影響，黃色為壓力應變，灰色為張力應變
性能
通用拉曼操作模式
l 拉曼光譜成像：連續掃描的拉曼高光譜全譜成像，每個樣品點都能獲得完整的拉曼光譜
l 平面2D和包含深度Z方向的3D成像模式
l 快速和慢速時間序列
l 單點及Z方向深度掃描
l 光纖耦合的UHTS 系列光譜儀，專為弱光應用的拉曼光譜設計
l 共聚焦熒光顯微鏡功能
l 明場顯微鏡功能
通用原子力顯微鏡操作模式
l 接觸模式
l AC 模式（輕敲模式）
l 數字脈沖力模式 (DPFM)
l 抬高模式
l 磁力顯微鏡模式 (MFM)
l 靜電力顯微鏡模式 (EFM)
l 相位成像模式
l 力曲線分析
l 微納操控及微納印刷
l 橫向力模式 (LFM)
l 化學力模式 (CFM)
l 電流探測模式
l 其他可選
基本顯微鏡指標
l 研究級別的光學顯微鏡，6孔物鏡轉盤
l 明場CCD相機，代替目鏡觀察樣品
l LED明場科勒照明
l 電動XYZ樣品臺，25x25x20mm平移范圍
l 主動隔震平臺
各類拉曼升級選項（如true surface等）
l 多種激光可選擇
l 多種光譜儀可選擇
l 自動共聚焦拉曼成像
l 自動多區域多點測量
l 可升級超快拉曼圖像模式(需配置EMCCD和Piezo樣品臺，可獲得每秒1300張光譜的速度)
l 可升級落射熒光照明
l 自動聚焦功能
l 顯微鏡觀察法可選，如暗場，像差，偏光，微分干涉等
超高通光量UHTS光譜儀
l 各類透射式波長優化譜儀可選 (UV, VIS or NIR)，均為弱光拉曼光譜設計
l 光纖耦合，70%超高光通量
l 優異的成像質量，光譜峰形對稱無像差
控制電腦
WITec控制和數據采集，處理軟件
