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ETSA-300氣浮平臺

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更新時間：2024-12-20 15:54:32瀏覽次數：9次

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產品簡介

ETSA-300氣浮平臺說明：1.氣浮平臺克服了傳統機械定位臺行程短，響應滯后大，摩擦阻力等不足，實現了長行程高精度與高速定位功能，在半導體光刻設備，精密測量和生物醫學等領域中具有不可替代的作用

詳細介紹

ETSA-300氣浮平臺

說明：

1.氣浮平臺克服了傳統機械定位臺行程短，響應滯后大，摩擦阻力等不足，實現了長行程高精度與高速定位功能，在半導體光刻設備，精密測量和生物醫學等領域中具有不可替代的作用。

2.重復定位精度高，俯仰偏擺角度小，運動臺與導軌使用同種材料，在溫度變化較大的工況下不會出現氣 浮臺常見的“抱死"現象。

特點：

通過靜壓氣浮隔離機械運動副之間的接觸，提高平臺機構運動精度、表面平滑、微小偏差（俯仰， 偏擺等）、性能穩定、沒有機械損耗、“零"摩擦可使其進入納米級應用。

使用場所：

精密加工、精密測量、微電子制造業、光刻機平臺、半導體加工業、掃描。


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