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金屬氫化物氫凈化裝置

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更新時間:2024-08-19 14:26:32瀏覽次數:54次

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產品簡介

工作原理金屬氫化物儲氫凈化裝置是利用儲氫合金選擇性吸氫的能力,吸收較低純度氫氣中的氫形成金屬氫化物,之后用氫氣將濃縮于裝置空間的雜質氣體吹除,即可提高裝置中氫氣的純度,從而起到凈化氫氣的作用

詳細介紹




工作原理

金屬氫化物儲氫凈化裝置是利用儲氫合金選擇性吸氫的能力,吸收較低純度氫氣中的氫形成金屬氫化物,之后用氫氣將濃縮于裝置空間的雜質氣體吹除,即可提高裝置中氫氣的純度,從而起到凈化氫氣的作用。
金屬氫化物儲氫凈化裝置由兩個相同的儲氫凈化器組成,可實現連續凈化氫氣的目的,其示意圖如下:

圖1 金屬氫化物儲氫凈化裝置示意圖

金屬氫化物儲氫凈化裝置通過以下過程實現了持續工作:(1)儲氫凈化器Ⅰ吸氫:將低純度氫通入儲氫凈化器Ⅰ,同時向水套中通入常溫水,使其開始吸氫。(2)儲氫凈化器Ⅰ放氫、儲氫凈化器Ⅱ吸氫:儲氫凈化器Ⅰ吸氫完成后,放出雜質氣,然后向其水套中通入高溫水,儲氫凈化器Ⅰ開始放出高純氫氣;于此同時,將低純度氫通入儲氫凈化器Ⅱ,使其開始吸氫。(3)儲氫凈化器Ⅱ放氫、儲氫凈化器Ⅰ吸氫:儲氫凈化器Ⅰ放氫后,此時儲氫凈化器Ⅱ完成吸氫;向儲氫凈化器Ⅱ的水套中通入高溫水,使其開始放氫;同時將低純度氫通入儲氫凈化器Ⅰ,使其開始吸氫。如此通過兩個儲氫凈化器交叉進行吸放氫,實現了連續凈化氫氣的操作。


產品規格
型號
處理量
產氫純度
進氫壓力(MPa)
出氫壓力
(MPa)
循環水量(m3/h)
HYP-5
≤ 5m3/h
99.999%
2~3
0.1~3
0.6
HYP-10
≤ 10m3/h
99.999%
2~3
0.1~3
1.3
HYP-30
≤ 30m3/h
99.999%
2~3
0.1~3
3.8
HYP-50
≤ 50m3/h
99.999%
2~3
0.1~3
6.4
HYP-100
≤ 100m3/h
99.999%
2~3
0.1~3
12.8


該產品采用不銹鋼材質制作,工作時配套使用20~30℃常溫水浴和50~60℃高溫水浴,可將低純度原料氫凈化提純至氫氣純度為99.999%以上,原料氫中不得含有H2O、O2、H2S、NO、SO2、Cl2及CO等會對裝置內部的儲氫合金產生毒害作用的雜質氣體。表中列出了幾種常用規格的產品,我們也可按照客戶要求定制產品。


產品特性及應用


·石化、化工、醫藥加氫反應;
·航空航天熱處理,人造金剛石,半導體和集成電路制造的保護氣;
·粉末冶金、金屬焊接、重金屬冶煉凈化;
·航天飛機和潛艇的水分解與合成,原子能工業中的氫濃縮等。



關鍵詞:原料
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