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粉底液研磨分散機 粉體高速攪拌分散機

參  考  價面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號NKD2000

品       牌

廠商性質生產商

所  在  地上海市

更新時間:2024-08-01 11:57:00瀏覽次數:222次

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粉底液研磨分散機NKD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精 細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和 結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

【產品名稱概述】粉底液研磨分散機,粉底液膠體磨,粉底液研磨設備,乳液研磨機,化妝品研磨設備,CIK研磨分散機,高剪切研磨分散機,分散機價格,進口分散機,環保分散機,納米研磨分散機。

公司有樣機可供客戶實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導,價格面議,張猛。
【粉底液的簡介】 
粉底液 主要作用是均勻膚色,調整肌膚顏色,讓肌膚看起來更自然均勻。其次,粉底液也具有一定的遮力。特別是對于細紋和色斑,粉底液將會很有效的遮蓋類似瑕疵,讓肌膚看起來更健康自然.要想得到高品質的粉底液,就必須充分細化粉底液的粒徑。
                                  
【粉底液研磨分散機的概述】
,粉底液分散機,粉底液膠體磨 采用了二級處理結構,*級采用了高剪切膠體磨的磨頭模塊,第二季采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊,第二級模塊可根據客戶對物料的處理要求開配定轉子,定轉子可配2P、2G、4M、6F、8SF,且定轉子精密度都達到了*水平。


上海切可機械設備CIK管線式高剪切研磨分散機是由CIK研發工程師于2013年新研發的一款用于物料精細研磨,分散,乳化,均質的高精度設備,高剪切研磨分散機結合了CIK高剪切膠體磨與CIK高剪切分散均質乳化機的高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速zui高可達14000rpm,是目前國產設備轉速的4-5倍。

管線式高剪切研磨分散機是 CIK(上海)公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們 將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。磨頭下面的膠體磨可根據物 料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。 


研磨分散機的工作原理】 
是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外 部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有 效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。 

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。

研磨分散機的特點】   
NKD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精 細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和 結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

NKD2000系列設備型號表:

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

NKD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

NKD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

NKD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

NKD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

NKD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

NKD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

,粉底液膠體磨,粉底液研磨設備,乳液研磨機,化妝品研磨設備,CIK研磨分散機,高剪切研磨分散機,分散機價格,進口分散機,環保分散機,納米研磨分散機。

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