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進(jìn)口無(wú)掩膜曝光機(jī)多少錢(qián)

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品       牌

廠(chǎng)商性質(zhì)其他

所  在  地上海市

更新時(shí)間:2024-11-24 17:03:35瀏覽次數(shù):159次

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無(wú)掩膜曝光機(jī)美國(guó)IMP(Intelligent Micro Patterning,LLC)公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和多項(xiàng)無(wú)掩模曝光技術(shù),已成為無(wú)掩模紫外光刻領(lǐng)域的。國(guó)內(nèi)參考用戶(hù)較多!

無(wú)掩膜曝光機(jī)

美國(guó)IMP(Intelligent Micro Patterning,LLC)公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和多項(xiàng)無(wú)掩模曝光技術(shù),已成為無(wú)掩模紫外光刻領(lǐng)域的。國(guó)內(nèi)參考用戶(hù)較多!

     產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn):
     微米和亞微米光刻,最小0.6微米光刻精度
      紫外光直寫(xiě)曝光,無(wú)需掩模,大幅節(jié)約了掩模加工費(fèi)用
     靈活性高,可直接通過(guò)電腦設(shè)計(jì)光刻圖形,并可根據(jù)設(shè)計(jì)要求隨意調(diào)整。
      可升級(jí)開(kāi)放性系統(tǒng)設(shè)計(jì)。
      按照客戶(hù)要求可從低端到自由配置
     使用維護(hù)簡(jiǎn)單, 設(shè)備耗材價(jià)格低。
      應(yīng)用范圍廣,目前廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、傳感器、微化學(xué)、光學(xué)等領(lǐng)域。

    SF-100 型
      可配置汞燈光源和LED光源,多種波長(zhǎng)曝光(385nm, 405nm)

      目鏡最小像素 1um
      1.25 micron with 4X reduction lens
      0.50 micron with 10X reduction lens
      0.25 micron with 20X reduction lens

  無(wú)掩膜曝光機(jī)

 平臺(tái)參數(shù)
      全自動(dòng)電腦控制位移
      高精度三維線(xiàn)性驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái)

     

 X and Y 軸運(yùn)動(dòng):
      移動(dòng)范圍: 100--300mm
      準(zhǔn)確性: +/-200 nm per axis
      重復(fù)性: +/- 50 nm per axis
    

  Z 軸運(yùn)動(dòng):
      移動(dòng)范圍: 25 mm
      準(zhǔn)確性: +/- 200 nm
      重復(fù)性: +/- 75 nm
     

 Theta 轉(zhuǎn)動(dòng):
      轉(zhuǎn)動(dòng)角度: 360 degrees
      準(zhǔn)確性: +/-5 arc sec
      重復(fù)性: +/-2 arc sec

 
激光共聚焦對(duì)準(zhǔn)功能

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