液質(zhì)聯(lián)用儀維修范圍：

（1）質(zhì)譜主機(jī)（包括分子渦輪泵，電路板，離子源等），機(jī)械泵，液相主機(jī)（包括泵，自動(dòng)進(jìn)樣器，柱溫箱，系統(tǒng)控制器），控制電腦。不包括UPS和氣體發(fā)生器。

（2）響應(yīng)時(shí)間：在一小時(shí)內(nèi)電話響應(yīng)。如需要現(xiàn)場(chǎng)維修，在報(bào)修后的第二天上門(mén)維修，包括周六.

PM項(xiàng)目服務(wù)內(nèi)容

部分：維護(hù)前數(shù)據(jù)記錄

A. 氣體檢查、真空檢查；

B. Q1正離子模式數(shù)據(jù)記錄；

C. Q3正離子模式數(shù)據(jù)記錄；

D. PPG MS/MS 測(cè)試；

E. Q1負(fù)離子模式數(shù)據(jù)記錄；

F. Q3負(fù)離子模式數(shù)據(jù)記錄；

第二部分：維護(hù)過(guò)程部分

A. 檢查儀器的輸入電壓是否正常；

B. 檢查儀器所有的輸入氣體壓力是否正常；

C. 檢查離子源各個(gè)接頭是否有堵塞或漏液情況，并通過(guò)超聲波清洗兩通接頭和噴霧出口部分；

D. 檢查離子源是否有漏氣情況；

E. 檢查離子源內(nèi)PEEK管，發(fā)現(xiàn)堵塞時(shí)更換，清洗離子源流路；

F. 分別在正負(fù)離子模式下檢查離子源高壓是否正常，清洗離子源內(nèi)壁；

G. 分別在正負(fù)離子模式下檢查L(zhǎng)ENS電路板上各個(gè)測(cè)試點(diǎn)的電壓是否正常；

H. 檢查并優(yōu)化檢測(cè)器電壓；

I. 根據(jù)維護(hù)前做的測(cè)試實(shí)驗(yàn)，停機(jī)清洗LINAC,Q1和Q3，清洗接口部分（interface，Oriface內(nèi)部，Qjet，curtain plate）和四極桿；

J. 檢查機(jī)械泵，清洗機(jī)械泵濾網(wǎng)；

K. 檢查空氣過(guò)濾網(wǎng)，堵塞時(shí)更換；

L. 用壓縮空氣吹洗儀器內(nèi)部的灰塵，消除潛在的故障隱患；

M. 檢查操作儀器的工作站，清除不必要的程序并壓縮整理磁盤(pán)；

第三部分 維護(hù)后實(shí)驗(yàn)結(jié)果和記錄：

A. 實(shí)驗(yàn)前檢查儀器真空度是否正常，調(diào)節(jié)RF；

B. 調(diào)節(jié)優(yōu)化離子源參數(shù)，用標(biāo)準(zhǔn)品分別做Q1、Q3正負(fù)離子模式下實(shí)驗(yàn)，記錄實(shí)驗(yàn)結(jié)果

第四部分 本次維護(hù)保養(yǎng)總結(jié)

A. 清洗離子源、curtain plate、orifice plate、skimmer、Q0、Q1、Q3。                                                                        

B. 電路板除塵， 儀器清灰。                                                                      

C. 測(cè)試LENS電壓，電壓值均符合要求。                                                                      

D. 調(diào)試Q1、Q3正負(fù)離子模式PPG信號(hào)