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瑞澤氣體凈化湖北有限公司
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RZ-QYC系列氫氣純化設備一、概述QYC系列氫氣純化裝置以水電解氫氣為原料氫氣進入純化裝置的氣水分離器，分離去游離子水后進入脫氧器,在鈀鉑觸媒催化劑的作用下,使原料氫中的雜質氧與氫反應生成水汽
RZ-QYC系列氫氣純化設備
一、概述
QYC系列氫氣純化裝置以水電解氫氣為原料氫氣進入純化裝置的氣水分離器，分離去游離子水后進入脫氧器,在鈀鉑觸媒催化劑的作用下,使原料氫中的雜質氧與氫反應生成水汽。脫除雜質氧后，經氫氣冷卻器和氫氣冷凝器（使用冷卻水）及自動氣水分離器，分離去游離的凝水，然后進入分子篩吸附干燥器（I）去濕，再通過壓力調節閥調定純化工作壓力和通過高效過濾器除塵，獲得純氫產品。
注：根據實際操作使用情況，加熱溫度、再生吹冷時間、閥門切換時間可作適當調整。并也可按露點值決定閥門的切換時間。還可以根據客戶需要在裝置出口添加在線分析儀（微水儀、微氧儀）自動檢測的產品氫純度。一旦氫氣不合格會報警，并由放空閥放空，待問題解決合格后又自動恢復生產合格的純氫產品。
二、技術參數：
1、處理氣量： 1~3000 Nm3/h(可根據用戶需要訂做非標設備)
2、原料氣要求： 水電解氫氣（如果是其他氫氣來源、訂購時需說明，工藝不一樣）
3、工作壓力：0.2-6MPa （可根據用戶需要訂）
4、(氫氣純化裝置)凈化效能：
H2≥5N/6N/9N
水氣（H2O）≦-80℃
氧含量（O2） ≦1ppm
粉塵：氫氣干燥后，要求加絲網目≦1μ的過濾器。
三、應用領域：
高純氫氣廣泛應用于石油化工、電子工業、電子半導體、冶金工業、機械、食品加工、浮法玻璃、高純材料和光電材料等產業部門和科學研究中、生產部門亦可作為熱處理保護氣體以及精細有機合成、航空航天等方面有著廣泛的應用。例如本機已在精密合金熱處理、航天航空、半導體硅材料、硅外延、化合物半導體等的生產中的應用，效果都很好。
備注：其他類型的原料氫氣更具實際情況設計工藝。
關鍵詞
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