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刻蝕設備PlasmaPro1000 Astrea

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更新時間：2022-09-09 08:35:38瀏覽次數：184次

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產品簡介

刻蝕設備PlasmaPro1000 Astrea

詳細介紹

新型的PlasmaPro1000 Astrea刻蝕設備，該設備可以為PSS, GaN 和AlGaInP提供大批量刻蝕提供解決方案，有助于HBLED制造商提高良率和降低使用者成本。

該設備可以批量刻蝕55 x 2" 到 3 x 8"的晶片，設備的設計符合了HBLED材料嚴苛的化學要求。PlasmaPro1000 Astrea損耗低、產量高，以保證客戶芯片的光輸出。

該設備的高配置體現在，處理腔可作為獨立模塊或集群配置，也可升級為四面集群設備以支持三個生產模塊。

為確保該設備高稼動率性和易維護性，它的主要特性和優勢包括：

  • 行業，可處理直徑為690mm和高均勻性要求的等離子源。

  • 490mm的電極，可大批量處理55x2", 14x4", 7x6" 到3x8"尺寸的晶片

  • 高電導泵系統

  • 雙進氣口使制程調整更順暢

  • 為晶片冷卻提供大夾具

  • Z字型的移動方式確保晶片的均勻性

  • 硬件穩定和易于維護，確保正常運行時間


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