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超高真空兼容系統微波等離子源

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更新時間：2023-02-25 12:33:21瀏覽次數：319次

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所在地區：北京北京市

聯系人：趙俊峰

產品簡介

可選用氧氣、氮氣、氬氣等作為反應氣體，進行表面處理清潔、表面反應。

詳細介紹

應用領域：

試樣表面碳污染處理，腔體內壁面清潔，材料表面濺射處理。

作用機理：

(1)物理清潔：為離子轟擊，清潔強度取決于離子動能。所有種類的氣體均可充入，氬氣清潔作用。

(2)化學清潔：氧氣充入后產生電離反應，帶有化學活性的氧離子可以對表面的污染物進行反應，達到清潔作用。

參數：

材質：不銹鋼
供電電壓： AC220V
功率： 整機功率不超過150W

工作氣壓： 5~50Pa
安裝接口規格： DN35CF刀口法蘭

系統漏率： 5X10-11Pa*M3/S

可烘烤溫度：120°C

微波等離子源通氣實拍

氧氣：


氬氣：


氮氣：


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