工廠VOC廢氣凈化UV光解光氧除臭設(shè)備
1.為了使設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定,耐腐蝕等問題,我們?yōu)槟?梓昂高能離子催化設(shè)備,將惡臭物質(zhì)以曝氣形式分散到含活性污泥的混和液中,通過懸浮生長(zhǎng)的微生物降解惡臭物質(zhì) 適用范圍廣。適用范圍:截至2013年,日本已用于糞便處理場(chǎng)、污水處理廠的臭氣處理。優(yōu)點(diǎn):活性污泥經(jīng)過馴化后,對(duì)不超過極限負(fù)荷量的惡臭成分,去除率可達(dá)99.5%以上。缺點(diǎn):受到曝氣強(qiáng)度的限制,該法的應(yīng)用還有一定局限。
2.考慮到設(shè)備提高單位容積的負(fù)荷率等問題,我們?yōu)槟?梓昂高能離子催化設(shè)備,低溫等離子體空氣凈化設(shè)備能夠顯著治理的污染有:VOC、惡臭氣體、異味氣體、油煙、粉塵,也可用于消毒殺菌。低溫等離子體技術(shù)是一種全新的凈化過程,不需要任何添加劑、不產(chǎn)生廢水、廢渣,不會(huì)導(dǎo)致二次污染。
3.促使設(shè)備可支撐大量不同種群微生物群等問題,我們?yōu)槟?梓昂高能離子催化設(shè)備,當(dāng)離子平均能量超過污染介質(zhì)中化學(xué)鍵結(jié)合能時(shí),分子鍵斷裂,污染介質(zhì)分解,并在等離子發(fā)生器吸附場(chǎng)的作用下被收集。在低溫等離子體中,可能發(fā)生各類的化學(xué)反應(yīng),這主要取決于等離子的平均能量、離子密度、氣體溫度、污染物介質(zhì)內(nèi)分子濃度及共存的介質(zhì)成分對(duì)氣態(tài)有機(jī)污染物的降解機(jī)有足夠的能量來產(chǎn)生自由基,引發(fā)一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)。
工廠VOC廢氣凈化UV光解光氧除臭設(shè)備
1. 不需要高成本的化學(xué)藥劑,運(yùn)行穩(wěn)定,耐腐蝕,耐負(fù)荷沖擊能力大。
2. 針對(duì)特定有害氣體成份馴化適當(dāng)?shù)奈⑸铮岣邌挝蝗莘e的負(fù)荷率。
3. 填料采用有機(jī)無機(jī)混合填料,比表面積大,孔隙率高,并可為微生物提供營(yíng)養(yǎng),可支撐大量不同種群微生物群。
4、設(shè)備占地面積小,自重輕:處理10000m3/h風(fēng)量設(shè)備占地面積<6平方米。
5、優(yōu)質(zhì)進(jìn)口材料制造:防火、防爆、防腐蝕性能高,設(shè)備性能安全穩(wěn)定。
建設(shè)綠色企業(yè),堅(jiān)持綠色經(jīng)營(yíng)。上海梓昂環(huán)保設(shè)備專業(yè)提供商,為您解決一切工業(yè)廢氣治理難題!