上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司
主營產(chǎn)品: 乳化機(jī)、膠體磨、均質(zhì)機(jī)、分散機(jī)、研磨分散機(jī)、乳化泵、剪切泵、粉液混合機(jī)、成套多功能真空乳化機(jī) |
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更新時間:2017-05-05 09:02:09瀏覽次數(shù):641
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納米粉體膠體磨,納米粉體研磨設(shè)備,納米粉體膠體磨,納米粉體研磨機(jī),納米粉體高速剪切膠體磨,納米膠體磨,納米膠體磨
納米粉體的分散是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門普遍遇到的課題,其應(yīng)用日益廣泛,如化工、醫(yī)藥、涂料、材料、食品等。分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率*,而且是十分重要的技術(shù)手段。
但是由于納米粉體粒度小,極易產(chǎn)生自發(fā)凝并,表現(xiàn)出強(qiáng)烈的聚團(tuán)特性,不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體,聚團(tuán)的結(jié)果導(dǎo)致納米粉體材料性能的嚴(yán)重劣化。另一方面,在復(fù)合材料的制備過程中,由于納米粉體的這種強(qiáng)烈團(tuán)聚特性和它與復(fù)合基體材料的極性差異,納米粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復(fù)合材料,是復(fù)合材料的性能難以達(dá)到人們預(yù)期的效果。
所以為了解決這一問題,各種類型的分散設(shè)備應(yīng)運而生,粉體的分散、混合與均化在粉體技術(shù)中有三個目的。其一是使團(tuán)聚粉體的碎解和分散,盡力使團(tuán)聚粉體達(dá)到單粉體分散;其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻,而在使用時需要性能均一的粉體材料,為了消除各部分性能上的差異,需要對粉體材料進(jìn)行分散、混合與均化處理;其三是,有些粉體材料需要進(jìn)行改性處理,為了保證改性處理的均一性,也需要進(jìn)行分散、混合與均化處理。
SGN膠體磨GM2000系列特別適合于膠體溶液、納米懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外,GM2000在摩擦狀態(tài)下工作,也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流,因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。
SGN膠體磨結(jié)構(gòu):
三道磨碎區(qū):一級為粗磨碎區(qū),二級為細(xì)磨碎區(qū),三級為超微磨碎區(qū)。
我們的磨頭的結(jié)構(gòu):溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣,流道體積是一樣大,這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨,而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
GM2000系列高剪切膠體的特點:
1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
2、齒列的深度:從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。
3、溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
GM2000系列設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 馬達(dá)功率 KW | 出/入口連接 |
GM2000/4 | 700 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GM2000/5 | 3,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GM2000/10 | 8,000 | 4,200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
GM2000/20 | 20,000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GM2000/30 | 40,000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GM2000/50 | 80,000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
注:流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同事流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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