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CIK膠體磨，在制藥的生產中有著重要的用途，設備剪切力高，轉速高達14000rpm，是國產設備的4-5倍，符合醫藥衛生標準。好的混懸液會有較強的穩定性，這一方面與原料品質有關，另一方面則與所選的膠體磨設備有關。

該懸浮液工藝要點在于使用的膠體磨的研磨性能，普通膠體磨轉速3000rpm，研磨出來的懸浮液顆粒較粗，靜置一段時間容易產生絮凝，影響藥效和使用，*限制了新型*混懸劑的推廣，上海切可*混懸劑膠體磨NK2000系列轉速高達9000rpm，是專門為膠體溶液生產所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。NK2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。 經過NK2000膠體磨研磨后的混懸液固體顆粒粒徑80%小于10UM，分布范圍極窄。

 
CIK與國內膠體磨的性能比較：

一、轉速和剪切速率：

CIK膠體磨，可選擇德國機械密封，轉速可以達到15000轉    

F=23/0.7X1000=32857 S-1  

F=40/0.7/X1000=57142 S-1                      

國內膠體磨，可選擇機械密封一般3000轉，大約在14293-215440 S-1

通過轉速比較可知，這是乳粉碎研磨的重要因素，相當于前者是后者的2-3倍

二、膠體磨頭和間距：

CIK膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實現多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，NK膠體模塊，NKO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續粉液混合模塊。

間距可調，可實現1-10微米小粒徑材料加工

國內膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細度有限，100微米以下較困難，重復性差

三、機械密封：

CIK膠體磨，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至zui低，可24小時不停運轉

國內膠體磨，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀

四、清洗：

CIK膠體磨，立式，皮帶驅動，易于維護，可有效保護馬達及齒輪箱，防止損壞,符合流體流動原理，具有CIP/SIP在線清洗，在線殺菌功能，無需拆卸，機器設計*，立式結構符合流體原理，清洗更簡便

國內膠體磨，臥式或立式（馬達一體式），軸承部分受力較大，易于損壞，維護保養復雜，

通常情況，需要拆卸機器進行清洗

NK2000系列的特點：

①定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。

②齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。

③溝槽的結構式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

高剪切膠體磨主要用途：

高剪切膠體磨適用于制藥、食品、化工及其它行業的濕物料超微粉碎，能起到各種半濕體及乳狀液物質德粉碎、乳化、均質和混合，主要技術指標已達到國外同類產品的*水平。 

NK2000系列設備選型表：

注：流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到zui大允許量的10%

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