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SKC solmics CMP研磨墊增設(shè)工廠，啟動商業(yè)運行

2021-09-03 09:23:30 來源：SKC愛思開希 閱讀量：14445 評論
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導(dǎo)讀：SKC(代表董事 李完在)的半導(dǎo)體材料、零件專業(yè)子公司SKC solmics生產(chǎn)半導(dǎo)體平坦化工藝用核心零件CMP研磨墊(Chemical Mechanical Polishing PAD)的天安工廠開始商業(yè)運營。

　　【塑料機械網(wǎng) 明星企業(yè)】SKC(代表董事 李完在)的半導(dǎo)體材料、零件專業(yè)子公司SKC solmics生產(chǎn)半導(dǎo)體平坦化工藝用核心零件CMP研磨墊(Chemical Mechanical Polishing PAD)的天安工廠開始商業(yè)運營。加上原先的安城工廠，SKC solmics的年產(chǎn)能達到18萬張，提高了CMP研磨墊的韓國國產(chǎn)化率。
 
　　SKC solmics位于忠南天安的CMP研磨墊2工廠近日開始投入商業(yè)運營。去年共投資470億韓元，每年可生產(chǎn)12萬張CMP研磨墊。SKC的半導(dǎo)體材料事業(yè)始于2015年，當(dāng)時共投資200億韓元在安城龍月產(chǎn)業(yè)園建造了年產(chǎn)6萬張CMP研磨墊的1工廠，開始了CMP研磨墊事業(yè)。此后，隨著需求增加，又新建了2工廠，總產(chǎn)能擴大至原先的三倍。

SKC solmics 天安工廠的CMP研磨墊制造工藝圖片
 
　　利用機器人提高產(chǎn)品質(zhì)量
 
　　使用聚氨酯材料生產(chǎn)的CMP研磨墊與CMP研磨液一起經(jīng)過曝光、蝕刻、沉積工藝，通過機械的、化學(xué)的作用對半導(dǎo)體晶圓表面進行研磨，是一種高附加值產(chǎn)品。作為提高半導(dǎo)體集成度所需的核心材料，最近隨著半導(dǎo)體精細化和工程數(shù)量增加，使用量有所增加。根據(jù)半導(dǎo)體市場調(diào)研機構(gòu)分析，CMP研磨墊的全球市場規(guī)模到2023年將達到1.58萬億韓元。
 
　　CMP研磨墊市場上兩家美國公司的市場占有率達到90%以上，技術(shù)和專利壁壘高，新興企業(yè)難以進入，需要調(diào)節(jié)材料物性和加工晶圓表面的高端技術(shù)。SKC半導(dǎo)體材料事業(yè)自2015年開始后，在過去聚氨酯事業(yè)的技術(shù)和經(jīng)驗基礎(chǔ)上，通過自主研發(fā)，在國內(nèi)外申請了200多項專利，確保了事業(yè)競爭力。
 
　　SKC solmics是擁有CMP研磨墊原液制造配方的企業(yè)，而且具有微米級的CMP研磨墊中可以自由調(diào)節(jié)加工尺寸和均一度的能力，這意味著可以快速研發(fā)并供應(yīng)達到客戶物性和接觸面要求的CMP研磨墊。
 
　　在此基礎(chǔ)上，為CMP研磨墊材料原本大部分依賴于進口的韓國本土生產(chǎn)做出了貢獻。2016年開發(fā)用于鎢工藝的研磨墊，替代了客戶使用的進口產(chǎn)品。在韓國率先實現(xiàn)用于銅工藝的研磨墊韓國國產(chǎn)化，最近又成功率先完成了難度高的氧化工藝研磨墊韓國國產(chǎn)化，這提高了韓國國內(nèi)客戶的CMP研磨墊韓國國產(chǎn)化率。
 
　　SKC solmics 有關(guān)人士表示：“ 天安工廠生產(chǎn)主要依賴于進口的CMP研磨墊、空白光掩模，成為推動半導(dǎo)體材料國產(chǎn)化的根據(jù)地。目前，進行中的海外全球半導(dǎo)體制造商認(rèn)證評估已經(jīng)成功完成，我們將進軍全球市場，為強化半導(dǎo)體材料供應(yīng)鏈做貢獻。”

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