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進(jìn)口化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)哪家好

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng)北京中精儀科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)Rpo-6型
  • 所  在  地國(guó)外
  • 廠(chǎng)商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2024/11/29 5:51:48
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù)425
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北京中精儀科技有限公司是一家致力于提供先進(jìn)的科研生產(chǎn)測(cè)試儀器及相關(guān)技術(shù)咨詢(xún)服務(wù)的科技企業(yè), 公司由來(lái)自美國(guó)的相關(guān)領(lǐng)域資深專(zhuān)家成立, 公司總部設(shè)在美國(guó)加州硅谷地區(qū)。

公司多年來(lái)秉承著“精益求精”的經(jīng)營(yíng)理念,為中國(guó)高等院校、科研機(jī)構(gòu)、生產(chǎn)企業(yè)配備了大量先進(jìn)的專(zhuān)業(yè)儀器。提供了高水平、專(zhuān)業(yè)化的技術(shù)產(chǎn)品及高質(zhì)量的售后服務(wù)。

公司銷(xiāo)售的產(chǎn)品涉及到:

(1)材料力學(xué)試驗(yàn)機(jī):摩擦磨損試驗(yàn)機(jī),耐磨試驗(yàn)機(jī),真空試驗(yàn)機(jī),電化學(xué)腐蝕試驗(yàn)機(jī),疲勞試驗(yàn)機(jī),彎曲扭轉(zhuǎn)試驗(yàn)機(jī),微納劃痕儀、壓痕儀,高溫微米壓痕儀等。

 

(2)材料表面分析 :三維形貌儀,白光干涉儀,激光共聚焦顯微鏡,原子力顯微鏡等。

(3)半導(dǎo)體設(shè)備/CMP :原子層沉積系統(tǒng)(ALD),MBE分子束外延系統(tǒng),激光脈沖沉積(PLD),物理氣相沉積系統(tǒng)(PVD),化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備(CMP)等。

(4)生化儀器:激光拉曼光譜儀等

(5)扭矩測(cè)試:多功能扭矩測(cè)試儀,電機(jī)扭矩測(cè)試儀,軸承扭矩測(cè)試儀等。

多功能摩擦磨損試驗(yàn)機(jī),形貌儀,輪廓儀,摩擦儀,
從小規(guī)模的實(shí)驗(yàn)室經(jīng)濟(jì)角度出發(fā),Rpo-6型化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)是用來(lái)研發(fā)CMP工藝流程、拋光晶片的替換選擇,它的高度靈活性可以對(duì)任何材料進(jìn)行拋光。原位摩擦和拋光墊磨損測(cè)量可替換探頭達(dá)到6英寸晶片標(biāo)準(zhǔn)的工藝流程&消耗品的運(yùn)載
進(jìn)口化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)哪家好 產(chǎn)品信息

  Rpo-6型化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)主要特點(diǎn)

  技術(shù)

  化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)是用來(lái)對(duì)正在加工中的晶片或其他物料進(jìn)行平坦化處理的過(guò)程,而拋光技術(shù)則是利用了物理和化學(xué)的協(xié)同作用對(duì)晶片進(jìn)行的拋光,通過(guò)給儲(chǔ)存在拋光片里樣本的底座一個(gè)加載力而完成的,當(dāng)包含了研磨劑和活性化學(xué)劑兩種成分的拋光液通過(guò)底部時(shí),拋光墊和樣本開(kāi)始計(jì)數(shù)旋轉(zhuǎn)。

  原位摩擦

  該儀器通過(guò)測(cè)量原位摩擦和磨損程度來(lái)研究基本的拋光技術(shù),而摩擦的變化則可用來(lái)描述移除率的近似值。

  原位墊片磨損

  原位磨損率則可用來(lái)反應(yīng)在拋光,調(diào)節(jié)等情況下墊片的狀態(tài)。

  狀態(tài)

  原位和非原位調(diào)節(jié)

  晶片尺寸

  易于替換的晶片夾具可在同一測(cè)試儀上進(jìn)行拋光樣品的尺寸由1英寸至6英寸。

  泵

  獨(dú)立的可編程泵可提供泥漿,水以及其他的化工產(chǎn)品。

  消耗品和相關(guān)咨詢(xún)

  我們所提供的標(biāo)準(zhǔn)拋光材料里包含的不僅僅是儀器還有一系列的消耗品(拋光液、拋光墊等),與此同時(shí),我們科學(xué)團(tuán)隊(duì)也會(huì)為您提供有關(guān)工藝流程開(kāi)發(fā)和優(yōu)化的咨詢(xún)服務(wù)。

  Rpo-6型化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)規(guī)格

  人工晶片裝載

  臺(tái)式CMP研發(fā)系統(tǒng)

  原位和非原位調(diào)節(jié)

  使用可編程泵的泥漿和水管

  高硬度和良好的力控制

  340mm的滾筒直徑

  6英寸的樣本

  原位摩擦和墊片磨損選

  打印尺寸 w870x,d800x,h870mm

  應(yīng)用程序—CMP,MEMS,消耗品測(cè)試

  應(yīng)用

  拋光

  工藝開(kāi)發(fā)

  環(huán)境開(kāi)發(fā)

  拋光液開(kāi)發(fā)

  拋光墊表征

  粒子開(kāi)發(fā)

關(guān)鍵詞:拋光機(jī)
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