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安徽吸收譜專注于X射線吸收發(fā)射譜技術(shù)和光譜儀器開發(fā)，為科研人員提供專業(yè)的吸收發(fā)射譜技術(shù)解決方案。公司由院士牽頭，基于同步輻射背景的博士在吸收發(fā)射譜領(lǐng)域10余年的技術(shù)研究積累，開發(fā)標(biāo)準(zhǔn)化的臺(tái)式X-射線吸收設(shè)備譜設(shè)備。
公司秉承“讓XAFS走進(jìn)實(shí)驗(yàn)室”的技術(shù)追求，鉆研吸收發(fā)射譜技術(shù)，發(fā)揚(yáng)工匠精神和現(xiàn)代科學(xué)創(chuàng)新精神，持之以恒推進(jìn)X射線技術(shù)和儀器設(shè)備研發(fā)。
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型號HC-XAFS-T
熱催化原位池是一款為研究電極材料在熱催化實(shí)驗(yàn)中的結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計(jì)。工作電極（WE）放置在透視窗口處，從而使X射線能夠穿透工作電極。
●此裝置主體為高強(qiáng)度鋼結(jié)構(gòu)，可以耐800oC高溫和1~3MPa的高壓（配置小窗口可以實(shí)現(xiàn)更高壓力）；
●實(shí)現(xiàn)1℃精確控溫；
●此原位池可用于透射模式原位XAFS測試；
●靈活控制階梯式升溫，并可通入各種反應(yīng)氣氛，實(shí)時(shí)監(jiān)測升溫條件下物相變化；
●光窗直徑：13mm; 光學(xué)窗口選用Be窗；樣品片為粉末狀圓片；
●配循環(huán)冷卻裝置，循環(huán)水溫控制在25oC。
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