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Nanoscribe無掩膜光刻系統(tǒng)供應商

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  德國Nansocribe全資子公司 -
 
  德國Nanoscribe成立于2007年,總部位于德國卡爾斯魯厄,于2017年在中國上海成立分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司。作為Nanoscribe在中國全資子公司,其加強了德國的新技術在中國的銷售推廣;在鞏固并擴大現(xiàn)有業(yè)務關系的同時,進一步擴大了在整個亞太地區(qū)客戶服務范圍,負責系統(tǒng)的安裝,維護,以及相關培訓任務。分公司新建立的亞太實驗室可供客戶參觀和學習。
 
  目前,超過30個國家,1500名用戶正在使用Nanoscribe設備。排名*的大學里已經(jīng)有六所購買了Nanoscribe打印設備,這些大學包含哈佛大學、加州理工學院、牛津大學、倫敦帝國理工學院和蘇黎世聯(lián)邦理工學院、斯坦福大學等等。
 
  Nanoscribe公司的Photonic Professional GT系列是目前*的打印精度zui高的3D打印機。跟傳統(tǒng)的以激光立體光刻為代表的高精3D打印機相比,利用雙光子聚合技術原理的Photonic Professional GT系列能夠輕松打印出精細結構分辨率高出100倍的三維微納器件。
 
  不管是在科研領域還是在工業(yè)界,雙光子加工都被認為是非常具有應用前景的精細加工技術之一。作為市面上雙光子加工技術的翹楚,Nanoscribe 系列微納加工打印系統(tǒng)提供了全智能的軟件操作界面以及標準化3D作業(yè)流程,能夠?qū)崿F(xiàn)多種材料的增材制造。Nanoscribe幫助推動著諸如力學超材料、激光快速成型,微納機器人,再生醫(yī)學工程,微納光學,微機電以及等離激元等多個創(chuàng)新領域的研究。
 
微納3D打印設備
全新的Nanoscribe Quantum X系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細加工。該無掩模光刻系統(tǒng)改變了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統(tǒng)制作工藝。first雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)將具有優(yōu)異性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動的雙光子聚合技術結合起來。Quantum X提供了高設計自由度、高速的打印效率、以及增材制造復雜結構超光滑表面所需的高精度。快速、準確的增材制造工藝極大地縮短了設計迭代周期,實現(xiàn)了低成本的微納加工。
Nanoscribe無掩膜光刻系統(tǒng)供應商 產(chǎn)品信息

Nanoscribe工業(yè)級高速灰度光刻微納打印系統(tǒng) - Quantum X

德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展 LASER World of Photonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng) Quantum X ,并榮獲創(chuàng)新獎。該系統(tǒng)是世界first基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的精密加工微納米打印系統(tǒng),可應用于折射和衍射微光學。該系統(tǒng)的面世代表著Nanoscribe已進軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領域。具有全自動化系統(tǒng)的Quantum X無論從外形或者使用體驗上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)技術要點

這項突破性的技術將微納增材制造和超高速體素大小調(diào)節(jié)結合在一起:雙光子灰度光刻(2GL)是一種具有超高速、超精確的可以滿足自由形態(tài)的微加工技術,同時又不影響速度和精度。

Quantum X通過實時調(diào)制激光功率的技術在掃描平面上控制體素的大小。通過這種方式,具有復雜幾何形狀的結構可以被制造出來,同一物體中跨尺度的細節(jié)能夠?qū)崿F(xiàn)一步打印。無論是離散的,還是連續(xù)的復雜結構均可以在可達6英寸的晶圓片基板上精細打印,而不需要額外的光刻步驟或掩模制造。

 

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng) - 多種*智能化解決方案
·配備自動識別匹配不同物鏡,樣品架以及樹脂的功能,有助于樣品制備和硬件配置之間的切換,從而加快整個工作流程。

·配備從始至終的智能軟件向?qū)Чδ?,以簡化從初準備到?chuàng)建打印作業(yè)的整個流程。

·配備三個實時監(jiān)控攝像頭可同時監(jiān)管打印作業(yè)并支持直觀操作。現(xiàn)在用戶可以直接在內(nèi)置觸控屏上隨時檢查作業(yè)狀態(tài),控制打印過程并可隨時顯示和調(diào)整打印效果。

 

技術參數(shù)
產(chǎn)地:德國全進口

打印技術:雙光子灰度光刻 (2GL)

三維橫向特征尺度:160nm

**分辨率:400nm

小表面粗糙度:≤10nm

激光掃描速度:≤250mm/s


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