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無掩膜光刻系統(tǒng)多少錢

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱納糯三維科技（上海）有限公司Nanoscribe
品牌
型號(hào)QuantumX
所在地國外
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2024/11/2 7:43:21
訪問次數(shù)87

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公司介紹主營產(chǎn)品

　　德國Nansocribe全資子公司 -

　　德國Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，于2017年在中國上海成立分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司。作為Nanoscribe在中國全資子公司，其加強(qiáng)了德國的新技術(shù)在中國的銷售推廣；在鞏固并擴(kuò)大現(xiàn)有業(yè)務(wù)關(guān)系的同時(shí)，進(jìn)一步擴(kuò)大了在整個(gè)亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍，負(fù)責(zé)系統(tǒng)的安裝，維護(hù)，以及相關(guān)培訓(xùn)任務(wù)。分公司新建立的亞太實(shí)驗(yàn)室可供客戶參觀和學(xué)習(xí)。

　　目前，超過30個(gè)國家，1500名用戶正在使用Nanoscribe設(shè)備。排名*的大學(xué)里已經(jīng)有六所購買了Nanoscribe打印設(shè)備，這些大學(xué)包含哈佛大學(xué)、加州理工學(xué)院、牛津大學(xué)、倫敦帝國理工學(xué)院和蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院、斯坦福大學(xué)等等。

　　Nanoscribe公司的Photonic Professional GT系列是目前*的打印精度zui高的3D打印機(jī)。跟傳統(tǒng)的以激光立體光刻為代表的高精3D打印機(jī)相比，利用雙光子聚合技術(shù)原理的Photonic Professional GT系列能夠輕松打印出精細(xì)結(jié)構(gòu)分辨率高出100倍的三維微納器件。

　　不管是在科研領(lǐng)域還是在工業(yè)界，雙光子加工都被認(rèn)為是非常具有應(yīng)用前景的精細(xì)加工技術(shù)之一。作為市面上雙光子加工技術(shù)的翹楚，Nanoscribe 系列微納加工打印系統(tǒng)提供了全智能的軟件操作界面以及標(biāo)準(zhǔn)化3D作業(yè)流程，能夠?qū)崿F(xiàn)多種材料的增材制造。Nanoscribe幫助推動(dòng)著諸如力學(xué)超材料、激光快速成型，微納機(jī)器人，再生醫(yī)學(xué)工程，微納光學(xué)，微機(jī)電以及等離激元等多個(gè)創(chuàng)新領(lǐng)域的研究。

展開顯示更多內(nèi)容

微納3D打印設(shè)備

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

全新的Nanoscribe Quantum X系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細(xì)加工。該無掩模光刻系統(tǒng)改變了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級(jí)衍射光學(xué)元件的傳統(tǒng)制作工藝。first雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)將具有優(yōu)異性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動(dòng)的雙光子聚合技術(shù)結(jié)合起來。Quantum X提供了高設(shè)計(jì)自由度、高速的打印效率、以及增材制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)超光滑表面所需的高精度。快速、準(zhǔn)確的增材制造工藝極大地縮短了設(shè)計(jì)迭代周期，實(shí)現(xiàn)了低成本的微納加工。

無掩膜光刻系統(tǒng)多少錢產(chǎn)品信息

Nanoscribe工業(yè)級(jí)高速灰度光刻微納打印系統(tǒng) - Quantum X

德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會(huì)展 LASER World of Photonics上發(fā)布了全新工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng) Quantum X ，并榮獲創(chuàng)新獎(jiǎng)。該系統(tǒng)是世界first基于雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）的精密加工微納米打印系統(tǒng)，可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué)。該系統(tǒng)的面世代表著Nanoscribe已進(jìn)軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領(lǐng)域。具有全自動(dòng)化系統(tǒng)的Quantum X無論從外形或者使用體驗(yàn)上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)技術(shù)要點(diǎn)

這項(xiàng)突破性的技術(shù)將微納增材制造和超高速體素大小調(diào)節(jié)結(jié)合在一起：雙光子灰度光刻(2GL)是一種具有超高速、超精確的可以滿足自由形態(tài)的微加工技術(shù)，同時(shí)又不影響速度和精度。

Quantum X通過實(shí)時(shí)調(diào)制激光功率的技術(shù)在掃描平面上控制體素的大小。通過這種方式，具有復(fù)雜幾何形狀的結(jié)構(gòu)可以被制造出來，同一物體中跨尺度的細(xì)節(jié)能夠?qū)崿F(xiàn)一步打印。無論是離散的，還是連續(xù)的復(fù)雜結(jié)構(gòu)均可以在可達(dá)6英寸的晶圓片基板上精細(xì)打印，而不需要額外的光刻步驟或掩模制造。