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灰度光刻3D打印系統

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  德國Nansocribe全資子公司 -
 
  德國Nanoscribe成立于2007年,總部位于德國卡爾斯魯厄,于2017年在中國上海成立分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司。作為Nanoscribe在中國全資子公司,其加強了德國的新技術在中國的銷售推廣;在鞏固并擴大現有業務關系的同時,進一步擴大了在整個亞太地區客戶服務范圍,負責系統的安裝,維護,以及相關培訓任務。分公司新建立的亞太實驗室可供客戶參觀和學習。
 
  目前,超過30個國家,1500名用戶正在使用Nanoscribe設備。排名*的大學里已經有六所購買了Nanoscribe打印設備,這些大學包含哈佛大學、加州理工學院、牛津大學、倫敦帝國理工學院和蘇黎世聯邦理工學院、斯坦福大學等等。
 
  Nanoscribe公司的Photonic Professional GT系列是目前*的打印精度zui高的3D打印機。跟傳統的以激光立體光刻為代表的高精3D打印機相比,利用雙光子聚合技術原理的Photonic Professional GT系列能夠輕松打印出精細結構分辨率高出100倍的三維微納器件。
 
  不管是在科研領域還是在工業界,雙光子加工都被認為是非常具有應用前景的精細加工技術之一。作為市面上雙光子加工技術的翹楚,Nanoscribe 系列微納加工打印系統提供了全智能的軟件操作界面以及標準化3D作業流程,能夠實現多種材料的增材制造。Nanoscribe幫助推動著諸如力學超材料、激光快速成型,微納機器人,再生醫學工程,微納光學,微機電以及等離激元等多個創新領域的研究。
 
微納3D打印設備
Quantum X shape雙光子無掩膜光刻系統是一款真正意義上的多面手。基于雙光子聚合技術,該系統不僅是快速成型制作的機型,同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規模化生產。全新Quantum X shape可以為您打印任何 2.5D 和 3D 微納結構,提供真正意義上的設計自由度。該系統可實現您各類高縱橫比結構。
灰度光刻3D打印系統 產品信息
作為同類中超前的3D打印系統
Quantum X shape 可打印任何形狀,最小尺寸可達100nm同時表面粗造度(Ra)小于5nm,打印面積可達25 cm


具備自動滴膠模組功能的優良打印系統,過夜效率可達200個特征結構。


通用高性能雙光子聚合材料,適用高分子及玻璃打印。



Reshaping precision.

作為已被工業界認可的Nanoscribe公司推出的Quantum X平臺的二代加工系統,Quantum X shape雙光子無掩膜光刻系統在3D微納加工領域擁有驚人的高精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其體素調制比和超精細處理網格,從而實現亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調,該系統在表面微結構的制作上可達到超光滑,同時保持高精度的形狀控制。

Reshaping output.

Quantum X shape雙光子無掩膜光刻系統不僅是應用于生物醫學、微光學、MEMS、微流道、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具,同時也成為基于晶圓的小結構單元的批量生產的簡易工具。

Reshaping usability.

通過系統集成觸控屏控制打印文件來大大提高實用性。通過系統自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監控及多用戶的使用配置,實現推動工業標準化及基于晶圓批量效率生產。

 

 

主要特征:

* 納米尺度打印:在任意空間方向上的特征尺度控制,可達100nm

* 超快體素控制和100nm處理網格的高速3D微納加工

* 優良的振鏡軌道控制保證的快速掃描速度下的軌跡準確度

* 自動化自校準路徑保證的高精度激光能量控制及定位

* 可達6英寸基片和硅片的廣泛選擇

* 工業化批量生產: 200個標準介觀尺度結構通宵產量

* 保證實用性和體驗感的觸控屏和遠程控制功能

* 快速原型制作,高精度,高設計自由度,簡易明了的工作流程

* 工業驗證的晶圓級批量生產

* 通用及專用的打印材料

* 兼容自主及第三方打印材料




 

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