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  德國Nansocribe全資子公司 -
 
  德國Nanoscribe成立于2007年,總部位于德國卡爾斯魯厄,于2017年在中國上海成立分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司。作為Nanoscribe在中國全資子公司,其加強了德國的新技術在中國的銷售推廣;在鞏固并擴大現有業務關系的同時,進一步擴大了在整個亞太地區客戶服務范圍,負責系統的安裝,維護,以及相關培訓任務。分公司新建立的亞太實驗室可供客戶參觀和學習。
 
  目前,超過30個國家,1500名用戶正在使用Nanoscribe設備。排名*的大學里已經有六所購買了Nanoscribe打印設備,這些大學包含哈佛大學、加州理工學院、牛津大學、倫敦帝國理工學院和蘇黎世聯邦理工學院、斯坦福大學等等。
 
  Nanoscribe公司的Photonic Professional GT系列是目前*的打印精度zui高的3D打印機。跟傳統的以激光立體光刻為代表的高精3D打印機相比,利用雙光子聚合技術原理的Photonic Professional GT系列能夠輕松打印出精細結構分辨率高出100倍的三維微納器件。
 
  不管是在科研領域還是在工業界,雙光子加工都被認為是非常具有應用前景的精細加工技術之一。作為市面上雙光子加工技術的翹楚,Nanoscribe 系列微納加工打印系統提供了全智能的軟件操作界面以及標準化3D作業流程,能夠實現多種材料的增材制造。Nanoscribe幫助推動著諸如力學超材料、激光快速成型,微納機器人,再生醫學工程,微納光學,微機電以及等離激元等多個創新領域的研究。
 
微納3D打印設備
全新的Nanoscribe Quantum X系統適用于工業生產中所需手板和模具的定制化精細加工。該無掩模光刻系統改變了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統制作工藝。first雙光子灰度光刻(2GL®)系統將具有優異性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動的雙光子聚合技術結合起來。Quantum X提供了高設計自由度、高速的打印效率、以及增材制造復雜結構超光滑表面所需的高精度。快速、準確的增材制造工藝極大地縮短了設計迭代周期,實現了低成本的微納加工。
微納打印無掩膜光刻系統廠家 產品信息

Nanoscribe工業級高速灰度光刻微納打印系統 - Quantum X

德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展 LASER World of Photonics上發布了全新工業級雙光子灰度光刻微納打印系統 Quantum X ,并榮獲創新獎。該系統是世界first基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的精密加工微納米打印系統,可應用于折射和衍射微光學。該系統的面世代表著Nanoscribe已進軍現代微加工工業領域。具有全自動化系統的Quantum X無論從外形或者使用體驗上都更符合現代工業需求。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統技術要點

這項突破性的技術將微納增材制造和超高速體素大小調節結合在一起:雙光子灰度光刻(2GL)是一種具有超高速、超精確的可以滿足自由形態的微加工技術,同時又不影響速度和精度。

Quantum X通過實時調制激光功率的技術在掃描平面上控制體素的大小。通過這種方式,具有復雜幾何形狀的結構可以被制造出來,同一物體中跨尺度的細節能夠實現一步打印。無論是離散的,還是連續的復雜結構均可以在可達6英寸的晶圓片基板上精細打印,而不需要額外的光刻步驟或掩模制造。

 

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統 - 多種*智能化解決方案
·配備自動識別匹配不同物鏡,樣品架以及樹脂的功能,有助于樣品制備和硬件配置之間的切換,從而加快整個工作流程。

·配備從始至終的智能軟件向導功能,以簡化從初準備到創建打印作業的整個流程。

·配備三個實時監控攝像頭可同時監管打印作業并支持直觀操作。現在用戶可以直接在內置觸控屏上隨時檢查作業狀態,控制打印過程并可隨時顯示和調整打印效果。

 

技術參數
產地:德國全進口

打印技術:雙光子灰度光刻 (2GL)

三維橫向特征尺度:160nm

**分辨率:400nm

小表面粗糙度:≤10nm

激光掃描速度:≤250mm/s


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