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新材料半導體生產的廢氣怎么處理好

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隨著我國工業技術的發展,其中半導體行業需求也加大,但隨之而來也帶有VOC廢氣對大氣污染。半導體行業對生產車間清潔度要求高,因此廢氣排放風量較大、排放濃度小的。主要來源于芯片或者是線路板出產的清洗、均膠、去膠、刻蝕、顯影過程中以及對電路板進行清洗。主要成分有機廢氣和酸堿廢氣兩類
新材料半導體生產的廢氣怎么處理好 產品信息

隨著我國工業技術的發展,其中半導體行業需求也加大,但隨之而來也帶有VOC廢氣對大氣污染。半導體行業對生產車間清潔度要求高,因此廢氣排放風量較大、排放濃度小的。主要來源于芯片或者是線路板出產的清洗、均膠、去膠、刻蝕、顯影過程中以及對電路板進行清洗。主要成分有機廢氣和酸堿廢氣兩類。在整個工藝加工的過程中將會有部分的有機溶劑大部分通過揮發成為廢氣排放,這部分揮發的廢氣主要成分為具有揮發性的VOCs,下面昆山鑫藍環保小編簡單介紹半導體廢氣處理解決方案。

 

半導體廢氣處理解決方案:

(1預處理階段一般采用噴淋塔先對廢氣進行預處理,去除粉塵以及易溶于水的有害氣體。

(2主要處理階段在此階段,比較常見而有效方法有UV光催化,焚燒和催化燃燒等。

這幾種單一方式各有優劣,根據大多數電子廠廢氣的情況,在這里我們主要推薦活性炭吸附+催化燃燒組合工藝去除VOCs氣體的方案。

1、活性炭吸附

有機廢氣由風機提供動力,正壓或負壓進入活性炭吸附,由于活性炭固體表面上存在著未平衡和未飽和的分子引力,因此當此固體表面與氣體接觸時,就能吸引氣體分子,使其濃聚并保持在固體表面,污染物質從而被吸附,活性炭吸附到一定時間后,即可進入脫附流程,脫附后的氣體即是濃縮后的vocs氣體

2、催化燃燒設備

本凈化裝置是根據催化燃燒的基本原理設計的,催化凈化裝置內設加熱室、換熱室,啟動加熱裝置,進入內部循環,當熱氣源達到有機物的沸點時,有機物進入催化室進行催化分解成CO2和H2O,同時釋放出能量。利用釋放出的能量進入吸附床脫附時,此時加熱裝置*停止工作,有機廢氣在催化燃燒室內維持自燃,尾氣再生,循環進行。余熱經過換熱器進行回收,便于下次加熱進氣及余熱回收,能量回收效率高,能耗小,有機物得到催化處理。

   

鑫藍環保科技(昆山)有限公司,專注于大型工廠廢氣處理、粉塵處理,公司主營產品有:RTO焚燒設備、催化燃燒設備、活性炭吸附箱、防爆除塵器、布袋除塵器、濾筒除塵器、酸堿洗滌塔、靜電除油設備等,公司獲得多項實用新型證書。本公司生產設備和實施項目具有:節能環保、運行穩定、使用時間長、排放達標、項目投入少、處理效果好、設備噪聲低、處理量大、耐摩擦、維修便捷等特點。

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